Технология герметизации и монтажа микросхем: опыт GS Nanotech и Остек-ЭК

«Остек-ЭК» — это ключевое подразделение группы компаний ОСТЕК, которое занимается внедрением передовых технологий на предприятиях микроэлектроники, включая сборочное производство и изготовление полупроводниковых компонентов.

Совместный проект GS Nanotech и Остек-ЭК: от идеи до реализации

Четвертая часть цикла публикаций посвящена завершающим этапам производства — герметизации микросхем в пластиковые корпуса и финальному монтажу. Этот материал продолжает серию «Микроэлектроника. Истории запуска в РФ», рассказывающую о реальном опыте внедрения производственных линий в России.

Проект по запуску линии корпусирования для компании GS Nanotech, начатый в 2013 году, стал масштабной двухлетней работой. Он включал в себя проектирование производства, проведение тендера, закупку и поставку оборудования, а также комплексные пусконаладочные работы и отладку всех технологических процессов.

Ранее в цикле были рассмотрены:

  • GS Nanotech и Остек-ЭК: Часть 1: обработка пластин — этап Pre-Assembly
  • GS Nanotech и Остек-ЭК. Часть 2: монтаж кристалла на подложку
  • GS Nanotech и Остек-ЭК. Часть 3: разварка — этап Wire Bond
Общее изображение производственной линии

Герметизация (Molding): создание надежного пластикового корпуса

Перед тем как сформировать корпус, подложки с установленными и разваренными кристаллами проходят обязательную плазменную очистку. Это критически важный этап, поскольку герметизирующий компаунд взаимодействует с различными материалами: подложкой, припоем, металлом контактных площадок и самим полупроводниковым кристаллом. Загрязнения на поверхности могут привести к отслоению компаунда, накоплению влаги и, как следствие, к образованию микротрещин в корпусе при отверждении.

Схематичное изображение плазменной очистки

Плазменная обработка не только очищает, но и активирует поверхность, повышая энергию связи. Это происходит за счет разрыва старых химических связей и образования новых, что гарантирует прочное сцепление и высокую герметичность будущего корпуса. Для очистки используется та же установка AP-1000, что и на предыдущих этапах, но с другим режимом работы и оснасткой.

Процесс литьевого прессования

Для герметизации применяется машина AMS-i компании Fico, в которой реализован метод литьевого прессования. Расплавленный термореактивный компаунд (реактопласт) под давлением подается в пресс-форму, где находится мультизаготовка. После выдержки под температурой и давлением изделие охлаждается и отправляется в печь для окончательного запекания (отверждения) компаунда.

Машина для литьевого прессования AMS-i

Потенциальные дефекты и их предотвращение

На этапе герметизации возможны различные дефекты:

  • Коробление подложки из-за разницы коэффициентов термического расширения материалов.
  • Неполная герметизация при малом зазоре между кристаллом и краем подложки.
  • Косметические дефекты (пятна, разная плотность) из-за нарушений в процессе заливки.
Примеры дефектов герметизации

Для их минимизации необходимо тщательно рассчитывать множество параметров: геометрию кристалла и модуля, толщину слоев, температурные профили, давление и время каждого этапа. Интеллектуальная система AMS-i предоставляет технологу широкие возможности для тонкой настройки процесса. Ее ключевые преимущества:

  • Высокая точность поддержания температуры (в пределах 2°C).
  • Удаленная подача гранулята для работы в чистом помещении.
  • Высокая производительность (до 900 подложек в час).
  • Встроенные системы контроля ориентации, обнаружения брака и посторонних объектов.

Обратите внимание: MIT: ядерная энергия является неотъемлемой частью будущего энергетики с низким содержанием углерода.

Печь для запекания должна строго выдерживать заданный температурный профиль, который зависит как от типа компаунда, так и от состояния изделия на входе. Производители материалов предоставляют рекомендации по оптимальным режимам нагрева, выдержки и охлаждения.

Печь для запекания компаунда

Контроль качества герметизации

После герметизации проводится трехэтапный неразрушающий контроль:

  1. Визуальная инспекция под микроскопом для выявления видимых дефектов, загрязнений и повреждений.
    Визуальный контроль под микроскопом
  2. Ультразвуковой контроль на установке D9500 для обнаружения внутренних дефектов: трещин, пустот, отслоений.
    Ультразвуковой контроль
  3. Рентгеноскопия для проверки целостности и правильности положения разварных петель.
    Рентгеновский снимок разварки

Финальные операции: монтаж выводов, разделение и тестирование

Завершающие этапы корпусирования включают установку шариковых выводов (BGA), разделение подложки на отдельные чипы и комплексный контроль.

Перед монтажом выводов контактные площадки снова очищаются плазмой на установке АР-1000. Шариковые выводы монтируются методом переноса с использованием паяльной пасты, аналогично поверхностному монтажу компонентов. Точность современных автоматов (до 50 мкм) полностью удовлетворяет требованиям этого процесса. После установки подложка отправляется в печь для оплавления пасты.

Процесс монтажа шариковых выводов

Далее мультизаготовка разрезается дисковыми пилами на отдельные микросхемы, которые укладываются в стандартные транспортные треи (JEDEC).

Финальный контроль и отгрузка

Ключевой этап — электрическое тестирование на автоматическом стенде. Контактные устройства позволяют проверять микросхемы прямо в транспортной таре, что повышает эффективность. Успешно прошедшие все проверки изделия упаковываются и отправляются заказчику.

Будьте в курсе новых материалов, подписывайтесь на наши обновления на Яндекс.Дзен.

Другие статьи цикла:

  • GS Nanotech и Остек-ЭК. Часть 1: обработка пластин — этап Pre-Assembly. Из историй запуска в РФ
  • GS Nanotech и Остек-ЭК. Часть 2: монтаж кристалла на подложку
  • GS Nanotech и Остек-ЭК. Часть 3: разварка — этап Wire Bond. Из историй запуска в РФ

Больше интересных статей здесь: Новости науки и техники.

Источник статьи: GS Nanotech и Остек-ЭК. Часть 4: герметизация в пластиковые корпуса и монтаж. "Из историй запуска в РФ".