Ключевая технология XXI века
Фотолитография, хотя и незнакомая широкой публике, является фундаментальной технологией современности. Её роль в создании электронных микросхем сравнима по значимости с промышленными станками прошлого или ядерными реакторами. Наличие собственных мощностей в микроэлектронике сегодня — это не просто вопрос технологической независимости, а индикатор способности государства отвечать на вызовы времени и претендовать на лидерские позиции. Россия, безусловно, входит в число таких стран, обладая компетенциями для производства сложных электронных устройств.
Однако существующие в России техпроцессы, в диапазоне от 65 до 180 нанометров, в основном закрывают потребности оборонно-промышленного комплекса и базовых сегментов потребительского рынка. Этого достаточно для создания энергоэффективных станков, серверов, элементов бытовой техники и автомобильной электроники. Для таких задач, как оснащение ракет дальнего радиуса действия, сверхплотные чипы и не требуются. Проблема возникает в сегменте высокотехнологичной потребительской электроники — смартфонов, видеокамер и им подобных устройств, где востребованы техпроцессы 5-10 нанометров. На данный момент российская промышленность не способна производить чипы такой плотности.
Обратите внимание: Российский дизайнер разработал концептуально новый автомобиль.
Ранее этот разрыв компенсировался за счёт импорта, включая критически важное оборудование для фотолитографии.Завод «Микрон»
Высокая цена технологического суверенитета
Создание отечественной фотолитографической установки — задача колоссальной сложности и стоимости. Внешнее сходство с устройствами для проявки плёнки обманчиво. Реализация такого проекта потребует многомиллиардных инвестиций.
Значительную часть расходов составляет сопутствующее оборудование. Например, комплект фотошаблонов (масок), через которые лазерный луч проецирует схему на кремниевую пластину, покрытую светочувствительным составом, может стоить десятки миллионов долларов.
Завод «Микрон»
Гонка со временем и текущие разработки
Российские инженеры предпринимали попытки создания передового оборудования более десяти лет назад, однако тогда проект не получил достаточного развития. Сегодня работа возобновлена: в Зеленограде ведутся работы над установкой для техпроцесса 130 нм.
Для понимания масштаба отставания стоит учесть, что западные консорциумы потратили свыше 20 миллиардов долларов и 15 лет на создание коммерческой машины для массового выпуска 5-нм чипов. В России, по имеющимся данным, был создан лабораторный образец на базе 7-нм техпроцесса. Однако, как показывает мировая практика, путь от опытного образца до серийного производства может занять 10-20 лет, а в условиях санкционных ограничений эти сроки могут ещё увеличиться.
Более обнадёживающие перспективы связаны с разработками Курчатовского института. Согласно планам, прототип новой установки может быть готов к 2027 году. При этом важно понимать, что в таких сложных проектах сдвиги сроков — обычное явление, и дата может корректироваться не один раз.
Стоит также помнить, что даже успешно работающий прототип — это ещё не стабильная промышленная линия. Тем не менее, у российской электроники нет иного пути. Страна, находящаяся под санкционным давлением, остро нуждается в собственной фотолитографии не в отдалённой перспективе, а в самые ближайшие годы.
Больше интересных статей здесь: Промышленность.
Источник статьи: Российский фотолитограф - готовится прорыв к 2027 году.